7nm高端DUV光刻机还能出口

发布时间：2023-12-16 05:17:10 所属栏目：数码来源：DaWei

导读： ASML方面已经表示，将在年底前向中国客户交付部分先进芯片制造装备。

ASML已经获得荷兰官方的允许，在今年年底前向中国客户出口其部分先进工具。按照ASML的说法，在2023年的剩余时间里，

ASML方面已经表示，将在年底前向中国客户交付部分先进芯片制造装备。

ASML已经获得荷兰官方的允许，在今年年底前向中国客户出口其部分先进工具。按照ASML的说法，在2023年的剩余时间里，ASML将能继续出货其NXT:2000i和更先进的DUV型号的产品。

据ASML官网提供的信息，该公司目前在售的主流浸没式DUV光刻机产品共有三款，分别是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。这三款光刻机的最大特点是采用了双工件台技术，可以同时进行多个芯片的测试，从而实现更高的精度。

ASML官网上关于这一台TWINSCAN NXT:1980Di的介绍，其中在分辨率方面，写到是大于等于38nm（可以支持到7nm左右），而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。），而在精度方面，则是大于10纳米，也就是说，在这个范围内，我们可以看到很多细节。

（编辑：宿迁站长网）

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